沈阳科晶 1500℃单温区开启式管式炉高温度可达1500=C,可设置30段升降温程序，并设有过热和断偶保护功能，控温 精度高达=11,特别适合于在气氛保护或真空环境下对样品进行退火和烧结。

沈阳科晶1500℃高温真空管式炉是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法 兰，控制系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1P,可设置30段升降温程序，高温度可达150013 o

沈阳科晶1400℃三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为加热元件，采用S型单钳铐热电偶测温和708P温控仪自动控温。 本机设有真空装置，可在多种气氛下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、緩膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺，特别 适合批量生产使用。

沈阳科晶1400℃双温区真空气氛管式炉以硅碳棒为加热元件，采用S型单钳铐热电偶测温和51SP温控仪自动控温。 本机设有真空装置，可在多种气氛下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、緩膜、高温热解低温沉积（CVD）等工艺，特别 适合批量生产使用。

沈阳科晶1400℃小型管式炉GSL-1400X是小型高温管式炉，采用高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制 系统采用高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1P,可设置30段升降温程序，高温度可达1400^0